Conference Prsentations (Oral, Poster) -
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Growth of AlN thin films by pressure gradient sputtering method
Y. Terai, K. Haraguchi, R. Ichinose, H. Ohta, K. Yonezawa
14th International symposium on advanced plasma science and its applications for nitride and nanomaterials
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低温1段階法によるトポロジカル絶縁体Bi2Se3膜のエピタキシャル成長
野崎孝武，近藤智裕，寺井慶和
第12回半導体材料・デバイスフォーラム
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Growth of β-FeSi2/Si modulation-doped heterostructures
Kazuki Yamato, Hidekazu Kanda and Yoshikazu Terai
9 th International Symposium on Applied Engineering and Sciences
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Thickness dependence of polarized Raman spectra in topological insulator Bi2Se3 epitaxial films
Takamu Nozaki, Kondo Tomohiro and Yoshikazu Terai
9 th International Symposium on Applied Engineering and Sciences
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Growth of β-FeSi2/Si modulation-doped heterostructures
Kazuki Yamato, Hidekazu Kanda and Yoshikazu Terai
9 th International Symposium on Applied Engineering and Sciences
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Thickness dependence of polarized Raman spectra in topological insulator Bi2Se3 epitaxial films
Takamu Nozaki, Kondo Tomohiro and Yoshikazu Terai
9 th International Symposium on Applied Engineering and Sciences
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トポロジカル絶縁体Bi2Se3 エピタキシャル膜における偏光ラマンスペクトルの膜厚依存性
野崎孝武，近藤智裕，寺井慶和
2021年 第82回応用物理学会秋季学術講演会
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β-FeSi2/Si変調ドーピング構造の作製と電気特性評価
山戸一輝，神田秀和，寺井慶和
2021年 第82回応用物理学会秋季学術講演会
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Si/β-(Fe1-xRux)Si2/Si 多結晶積層構造における1.5 μm発光の寿命評価
吉原怜，寺井慶和
2021年 第82回応用物理学会秋季学術講演会
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偏光ラマンスペクトルによるトポロジカル絶縁体Bi2Se3エピタキシャル膜の評価
近藤智裕，野崎孝武，寺井慶和
2021年 第82回応用物理学会秋季学術講演会
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β-FeSi2 pnホモ接合における分光感度の素子構造依存性
神田秀和，山戸一輝，寺井慶和
2021年度 応用物理学会九州支部学術講演会
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β-FeSi2 pnホモ接合素子の作製と光応答特性
木下涼太，山戸一輝，寺井慶和
2021年 第68回応用物理学会春季学術講演会
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圧力勾配スパッタリング法によるAlN膜の作製と構造評価
原口謙吾，市瀬亮, 太田裕己，米澤 健，寺井慶和
2021年 第68回応用物理学会春季学術講演会
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トポロジカル絶縁体Bi2Se3の低温エピタキシャル成長と電気特性評価
野崎孝武，近藤智裕, 太田裕己，米澤 健，寺井慶和
2021年 第68回応用物理学会春季学術講演会
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β-(Fe1-xRux)Si2多結晶薄膜の作製と発光特性評価
吉原 怜，西 大樹，寺井慶和
2021年 第68回応用物理学会春季学術講演会
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Growth of AlN thin films by pressure gradient sputtering method
Y. Terai, K. Haraguchi, R. Ichinose, H. Ohta, K. Yonezawa
14th International symposium on advanced plasma science and its applications for nitride and nanomaterials
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Photoresponse spectra of n-Ru2Si3/p-Si hetero-junction grown by solid phase epitaxy
Hiroki Nishi and Yoshikazu Terai
8th International Symposium on Applied Engineering and Sciences
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β-FeSi2 pnホモ型接合素子の作製と分光感度評価
木下涼太, 山戸一輝, 寺井慶和
2020年度 応用物理学会九州支部学術講演会
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n-Ru2Si3/p-Siヘテロ接合における光応答特性の評価（II）
西 大樹，寺井慶和
2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会
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スパッタリング法によるβ-Fe1-xRuxSi2多結晶薄膜の作製
篠村 太輔，西 大樹，寺井 慶和
2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会