Conference Prsentations (Oral, Poster) -
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同時スパッタで作製したNb-Hf合金膜による陽極酸化膜キャパシタの損失特性
応用物理学会 2009年春季 第56回応用物理学関係連合講演会
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Hfを添加したNb合金による陽極酸化膜キャパシタの損失特性
北見工業大学，柴田智晴
2008年秋季 第69回応用物理学会学術講演会
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TiNゲートAlGaN/GaN HFETの特性評価
2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会
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n-GaNへの高温処理ZrN電極ショットキー特性
2007年秋季 第68回応用物理学会学術講演会
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Zr-Al 陽極酸化膜から作製した薄膜キャパシタのキャパシタ特性と漏れ電流機構
未入力
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低温プロセスによる(001)Ge上における(001)TiN薄膜のエピタキシャル成長
第54回応用物理学関係連合講演会
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(111)Si上でのCu/Ru/ZrN配線膜の連続エピタキシャル成長とその表面形態
応用物理学会, 2006年秋季 第67回応用物理学会学術講演会
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(111)Si上でのRu/ZrN積層膜の連続エピタキシャル成長とその表面形態
応用物理学会, 2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会
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(001)Si上極薄エピタキシャル(001)TiN膜の電気的特性とその表面形態
応用物理学会, 2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会
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(001)Si基板上での極薄TaN膜のエピタキシャル成長とその表面形態
応用物理学会, 2006年春季 第53回応用物理学関係連合講演会
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(001)Si基板上における(001)TiN膜の低温エピタキシャル成長
応用物理学会, 2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会
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化学量論的なTaN薄膜の(100)Si上での室温エピタキシャル成長
電子情報通信学会, 2005年ソサイエティ大会講演会
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(001)ZrN/(001)Si上におけるCu膜の連続エピタキシャル成長とその表面形態
応用物理学会, 2005年秋季 第66回応用物理学会学術講演会
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低温プロセスによる(111)Si上における(111)ZrN薄膜のエピタキシャル成長
応用物理学会, 平成17年春季第52回応用物理学関係連合講演会
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Y添加したAl陽極酸化膜キャパシタの電気的特性とその熱劣化機構
応用物理学会, 平成17年春季第52回応用物理学関係連合講演会
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真空中熱処理及び基盤温度上昇に伴って発現する(100)Si上(110)α-Ta膜のエピタキシャル成長機構
第45回真空に関する連合講演会
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スパッタ法により作製した窒化ハフニウム薄膜の配向性と電子放出特性
第45回真空に関する連合講演会
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VN薄膜からのスパッタイオンの放出角度分布測定
応用物理学会, 平成16年秋季第65回応用物理学会学術講演会
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(001)Si 上における(001)ZrN膜のエピタキシャル成長とその品質評価
応用物理学会, 平成16年春季第51回応用物理学関係連合講演会
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ZrとHfによる陽極酸化膜キャパシタの熱劣化機構の違い
応用物理学会, 平成16年春季第51回応用物理学関係連合講演会
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(111)Si基板上での(110)α-Ta膜のエピタキシャル成長に及ぼす基板温度の影響
応用物理学会, 平成16年春季第51回応用物理学関係連合講演会
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(001)Si上Ta膜の真空中アニール温度の上昇に伴うβ-Taからα-Taへの相変化
応用物理学会, 平成16年春季第51回応用物理学関係連合講演会
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HfN薄膜からのスパッタイオンの放出角度分布測定
応用物理学会, 平成16年春季第51回応用物理学関係連合講演会
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HfN/Si上におけるCu膜の連続エピタキシャル成長とその表面形態
応用物理学会, 平成15年春季第50回応用物理学関係連合講演会
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(001)Si基板上でのα-Ta(110)面のエピタキシャル成長
応用物理学会, 平成15年春季第50回応用物理学関係連合講演会
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Si上への(002)単配向Ti膜の実現
応用物理学会, 平成15年春季第50回応用物理学関係連合講演会
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エピタキシャル成長HfN/Si系と連続エピタキシャル成長Cu/HfN/Si系の表面形態
応用物理学会, 平成13年度秋季第62回応用物理学会学術講演会
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DCマグネトロンスパッタ法による高品質なα-Ta膜の作製
応用物理学会, 平成13年度秋季第62回応用物理学会学術講演会
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(111)Si上にエピタキシャル成長させた(111)HfN膜と(111)Cu/(111)HfN積層膜のAFM観察
本人
電子情報通信学会, 電子部品・材料研究会 (CPM)
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(111)Si上(111)Cu/(111)HfN２層膜の連続エピタキシャル成長と(111)HfN膜の拡散バリア特性
本人
電子情報通信学会, 電子部品・材料研究会 (CPM)
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連続単配向成長(111)Cu/(111)HfN/(002)Hf/(001)Siコンタクト系の熱的安定性
応用物理学会, 平成12年度秋季第61回応用物理学会学術講演会
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Cuメタライゼーション系へのZrN/Zr積層膜の適用
応用物理学会, 平成12年度秋季第61回応用物理学会学術講演会
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(001)Si上(111)Cu/(111)HfN/(002)Hf三層膜の連続単配向成長に及ぼすHf膜厚の影響
電子情報通信学会,電子部品・材料研究会 (CPM)
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薄いZrN/Zr２層膜を介在させたAl/ZrN/Zr/Siコンタクト系の熱的安定性
電子情報通信学会, 電子部品・材料研究会 (CPM)
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(001)Si上へのAl/HfN/Hf積層膜の連続単配向成長
本人
応用物理学会, 平成11年度秋季第60回応用物理学会学術講演会
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(001)Siと(111)Si上へのAl/HfN積層膜の連続単配向成長条件の検討
本人
電子情報通信学会, 電子部品・材料研究会 (CPM)
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高品質で低抵抗なHfN膜の形成過程に及ぼすスパッタリング因子の影響
応用物理学会, 平成10年度秋季第59回応用物理学会学術講演会
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Alメタライゼーション系へのAl3Hf/Hf積層膜の拡散バリヤとしての適用
本人
電子情報通信学会, シリコン材料・デバイス研究会 (SDM)
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Hfシリサイドの初期形成過程について
本人
電子情報通信学会, 平成9年度電気関係学会北海道支部連合大会
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n-(001)Si上への単配向Hf膜の作製条件の検討
電子情報通信学会, 電子部品・材料研究会 (CPM)
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連続交互スパッタ法で作製したAl3Hf金属間化合物膜の結晶化過程
本人
応用物理学会, 第32回応用物理学会北海道支部大会