口頭発表・ポスター発表等 - 片宗 優貴
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Surface Modification of Polycrystalline Diamond Films Using KrF Excimer Laser 招待有り
Yūki Katamune, Koki Murasawa, Toshifumi Kikuchi, Tsuyoshi Yoshitake, Hiroshi Ikenoue
MRM2021
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熱フィラメントCVD 成長によるダイヤモンドのn 型ドーピング 招待有り
片宗 優貴，森 大地，有川 大輔，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第67回応用物理学会春季学術講演会
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熱フィラメントCVD法による(111)面上へのリンドープn型ダイヤモンド膜の成長
片宗 優貴，森 大地，有川 大輔，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第80回応用物理学会秋季学術講演会
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中真空状態で生成した水分解種による酸化膜形成と膜質評価
加茂 智歩理，川田 正幸，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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下地層の結晶配向性がリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす影響
中村 龍平，中野 晃良，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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カソードルミネッセンス法とラマン分光法を用いたリン添加多結晶ダイヤモンド膜の特性評価
井下 智史，片宗 優貴，和泉 亮，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第21回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法における低メタン濃度でのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす基板ステージ温度の影響
堀田 有花，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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Hot-filament CVD growth and characterization of phosphorus-doped diamond thin films
Y. Katamune, S. Inoshita, A. Izumi, T. Teraji, K. Watanabe, and S. Koizumi
Diamond Electronic Devices 2024 – French Japanese Workshop 2024年06月
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多結晶ダイヤモンドのCVD成長とリン添加の影響
堀田有花，片宗優貴，和泉亮
第14回半導体デバイスフォーラム
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ホットワイヤー法により中真空状態で生成した水分解種によるSi基板上への酸化膜形成
加茂智歩理、川田正幸、片宗優貴、和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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ホットワイヤー法により生成した水分解種を用いた水素添加のSi酸化膜形成における金属汚染の低減
川田 正幸、加茂 智歩理、片宗 優貴、和泉 亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法によって堆積した SiCN 薄膜の硬度と表面組成評価
米満宥希, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Si 上に形成したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス
井下智史, 片宗優貴, 和泉亮, 寺地徳之, 渡邊賢司, 小泉聡
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加多結晶ダイヤモンド膜の厚膜化に伴う結晶方位の変化
山口一色, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HFCVD 法によるリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の厚さの影響
中村龍平, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の平滑性向上
片宗優貴，松本拓万，山口一色，和泉亮
第37回ダイヤモンドシンポジウム
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の表面構造変化
片宗 優貴，松本 拓万，山口 一色，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法により成長したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス評価
井下 智史，片宗 優貴，和泉 亮，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第20回Cat-CVD研究会
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99) リン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長と結晶方位評価
山口 一色，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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Si基板上へのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の影響
中村 龍平，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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低真空における水分解種による滅菌処理の検討
加茂 智歩理，川田 正幸，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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HW法による原子状水素を用いた酸化銅の還元評価
國友 亮佑，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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電子線後方散乱回折法によるリン添加多結晶ダイヤモンド膜の結晶方位評価の検討
山口一色、片宗優貴、和泉亮
2023年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会（九州表面・真空研究会2023）
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加熱触媒体により生成したラジカルによる滅菌法
川田 正幸、加茂 智歩理、片宗 優貴、和泉 亮
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リンを添加して成長させた多結晶CVDダイヤモンドの膜構造の成長時間依存性
山口一色，片宗 優貴，和泉 亮
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Unidirectionally-oriented growth of β-Ga2O3 Thin Films on diamond (100) by RF magnetron sputtering
Takafumi Kusaba, Phongsaphak Sittimart, Hiroshi Naragino, Tsuyoshi Yoshitake, Yuki Katamune, Shinya Ohmagari
The 7th Asian Applied Physics Conference
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RF マグネトロンスパッタ法によるダイヤモンド(100)基板上へのβ-Ga2O3薄膜の一軸配向成長
綿谷 敦志、Sittimart Phongsaphak、楢木野 宏、片宗 優貴、大曲 新矢、吉武 剛
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会
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熱フィラメントCVD法により成長した高濃度リンドープダイヤモンド(111)薄膜の電気的特性
片宗優貴，和泉亮，市川公善，小泉聡
第36回ダイヤモンドシンポジウム
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RFマグネトロンスパッタ法によるダイヤモンド (100)基板上へのβ-Ga2O3薄膜の⼀軸配向成長
草場 崇史、Sittimart Phongsaphak、楢木野 宏、片宗 優貴、大曲 新矢、吉武 剛
第13回半導体デバイスフォーラム
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HWCVD 法による SiCN 膜堆積における加熱触媒体表面の変質状態の調査
米満 宥希，片宗 優貴，和泉 亮
第13回半導体デバイスフォーラム
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熱フィラメントCVD法によるn型ダイヤモンドの成長と高濃度ドーピング
片宗 優貴，和泉 亮，市川公善，小泉聡
第19回Cat-CVD研究会 2022年07月
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熱フィラメントCVD法による多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼすリン不純物添加の影響
山口一色、片宗優貴、和泉亮
第19回Cat-CVD研究会
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SiCN膜堆積における加熱触媒体表面の変質状態の調査
米満宥希、森永隆希、岩崎雄大、片宗優貴、和泉亮
第19回Cat-CVD研究会
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Si基板上への多結晶ダイヤモンドの成長における予備成長層の検討
中野晃良、松本拓万、山口一色、片宗優貴、和泉亮
第19回Cat-CVD研究会
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加熱触媒体により生成したラジカルを用いた 新規滅菌法に関する基礎検討
川田正幸, 片宗優貴, 和泉亮
第19回Cat-CVD研究会
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HW法におけるHMDSを用いたタングステン触媒体の表面炭化組成の評価
岩﨑 雄大 、森永 隆希 、米満 宥希、片宗 優貴 、和泉 亮
第19回Cat-CVD研究会
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Heavily phosphorus-doped diamond thin films grown by hot-filament CVD
Y. Katamune, A. Izumi, K. Ichikawa, and S. Koizumi
NDNC2022 2022年06月
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Effects of trimethylphosphine on additional growth of polycrystalline diamond films by hot-filament chemical vapor deposition
T.Matsumoto, Y.Katamune, H.Yamaguchi, A.Nakano, A.Izumi
NDNC2022 2022年06月
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熱フィラメントCVD法により成長した リンドープn型ダイヤモンド薄膜のカソードルミネッセンス
片宗 優貴，森 大地，和泉 亮， 市川 公善，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第69回応用物理学会春季学術講演会
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導電性 AFM法によるダイヤモンドショットキーバリアダイオードの漏れ電流解析
山口遼平、大曲新矢、片宗優貴、和泉亮、上原 雅人、山田浩志
2021年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HW 法により生成した水素ラジカルによる高温状態での粉鉱の還元
中原由翔、片宗優貴、和泉亮
2021年度応用物理学会九州支部学術講演会
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H2O/H2分解種を用いて低温直接酸化で形成したSiO2/Si(100)の電気的特性調査
松永和樹、片宗優貴、和泉亮
2021年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Leakage current analysis of diamond Schottky barrier diodes by conductive atomic force microscopy
Ryohei Yamaguchi, Shinya Ohmagari, Yūki Katamune, Akira Izumi, Masato Uehara, and Hiroshi Yamada
ICAE2021
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熱フィラメントCVD法によるリン 添加多結晶ダイヤモンド膜の成長
松本拓万，片宗優貴，和泉亮
NDF若手研究会
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熱フィラメントCVD法による多結晶ダイヤモンド薄膜の成長とリン不純物添加
片宗 優貴，室津 遼，平木 元博，松浦 耕洋，和泉 亮
第18回Cat-CVD研究会
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触媒体表面処理を施して堆積したSiCN膜の表面組成の調査
森永隆希、岩崎雄大、片宗優貴、和泉亮
第18回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド成長膜の高品質化と大型ショットキーバリアダイオードの作製
山口遼平、大曲新矢、Phongsaphak Sittimart、片宗優貴、和泉亮
第18回Cat-CVD研究会
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HW法におけるHMDSによるタングステン触媒体の組成変化の評価
岩﨑 雄大 、森永 隆希 、片宗 優貴 、和泉 亮
第18回Cat-CVD研究会
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加熱触媒体により形成したSiO2膜の金属汚染低減による絶縁性の向上
松永和樹, 片宗優貴, 和泉亮
第18回Cat-CVD研究会
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HW法により生成した水素ラジカルによる粉鉱の還元におけるステージ温度依存性
中原由翔, 片宗優貴, 和泉亮
第18回Cat-CVD研究会
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n-Type Conductivity of Phosphorus-Doped (111) Diamond FilmsGrown by Hot-Filament CVD
Y. Katamune, D. Mori, A. Izumi, T. Shimaoka, K. Ichikawa, and S. Koizumi
NDNC2020/2021
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Laser Polishing of Polycrystalline Diamond Films on WC-Co by KrF-Laser-Induced Surface Modification
Y. Katamune, K. Murasawa, T. Kikuchi, T. Yoshitake, and H. Ikenoue
NDNC2020/2021
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Direct Printing of Low-Resistance Ohmic Contacts to p-type Diamond (100) Through Nanosecond Excimer Laser Irradiation
E. N. H. Abubakr, S. Ohmagari, A. Zkria, Y. Katamune, H. Ikenoue, and T. Yoshitake
NDNC2020/2021
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熱フィラメントCVD法によるリンドープn型ダイヤモンド薄膜の成長と評価
片宗 優貴，森 大地，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第34回ダイヤモンドシンポジウム
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熱フィラメントCVD法による多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす トリメチルホスフィン添加の影響
室津遼，山口遼平，片宗優貴，和泉亮
2020年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD法におけるHMDS及びH₂ガスが与える加熱Wワイヤー表面への影響
森永隆希，福島 和哉，松永和樹，片宗 優貴，和泉 亮
2020年度応用物理学会九州支部学術講演会
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加熱触媒体により生成した H2O/H2 分解種による極薄 SiO2 形成
松永 和樹，平田 宗史，福島 和哉，田原慎一，片宗 優貴，和泉 亮
2020年度応用物理学会九州支部学術講演会
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H2O/H2 分解種により低温酸化した結晶 Si の面方位依存性
松永 和樹, 福島 和哉, 田原 慎一, 片宗 優貴, 和泉 亮
第17回Cat-CVD研究会
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熱フィラメント CVD 法による n 型ダイヤモンド膜のエピタキシャル成長
片宗 優貴, 森 大地, 和泉 亮, 市川 公喜, 嶋岡 毅紘, 小泉 聡
第17回Cat-CVD研究会
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ホットワイヤー法により生成した水素ラジカルによる粉鉱の還元
中原 由翔, 北原 拓海, 片宗 優貴, 和泉 亮
第17回Cat-CVD研究会
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熱フィラメント CVD 法によるダイヤモンド成長に及ぼす SiCN 層の影響
森永 隆希, 森下 文広, 片宗 優貴, 和泉 亮
第17回Cat-CVD研究会
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熱フィラメント CVD 法により成長させたダイヤモンド膜の膜厚分布評価
山口 遼平, 森 大地, 片宗 優貴, 和泉 亮
第17回Cat-CVD研究会
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エキシマレーザー照射による多結晶ダイヤモンド膜の表面改質のフルエンス依存性
片宗 優貴，村澤 功基，菊地 俊文，吉武 剛，池上 浩
第67回応用物理学会春季学術講演会
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KrFエキシマレーザー照射による多結晶ダイヤモンド膜表面の平坦化加工
菊地 俊文，片宗 優貴，吉武 剛，池上 浩
レーザー学会学術講演会第40回年次大会
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加熱触媒体によるH2O/H2分解種の生成と金属汚染低減の検討
福島 和哉，松永 和樹，田原 慎一，片宗 優貴，和泉 亮
2019年（令和元年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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熱フィラメントCVD法によるリンドープn型(111)ダイヤモンド膜の抵抗率の温度依存性
森 大地， 片宗 優貴，和泉 亮，有川 大輔，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
2019年（令和元年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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KrFエキシマレーザーを用いた超硬合金上の多結晶ダイヤモンド膜の表面研磨
片宗 優貴、村澤 功基、菊地 俊文、吉武 剛、池上 浩
第33回ダイヤモンドシンポジウム
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熱フィラメントCVD法により成長したリンドープn型ダイヤモンド膜の電気的特性
片宗 優貴，森 大地，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第33回ダイヤモンドシンポジウム
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Homoepitaxial growth of n-type (111) diamond films grown by hot-filament chemical vapor depositoni using an organic phosphorus dopant source
Yūki Katamune, Daichi Mori, Akira Izumi, Takehiro Shimaoka, Kimiyoshi Ichikawa, and Satoshi Koizumi
JSPS-CNRS diamond detector workshop 2019
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HW法における処理中の試料表面温度の測定
北原拓海、中野智之、片宗優貴、和泉亮
2019年度（第72回）電気・情報関係学会九州支部連合大会
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Diamond Growth of {111} Surfaces on Diamond Grain Using Trimethylphosphine by Hot Filament Chemical Vapor Deposition
Daichi Mori, Yūki Katamune and Akira Izumi
The 7th IIAE International Conference on Intelligent Systems and Image Processing 2019
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X線反射率法を用いたSiOCN膜の評価
松本 真、筒井 逸仁、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド(111)面の結晶成長とリンドーピング
片宗 優貴、森 大地、有川 大輔、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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H2O/H2分解種を用いた直接酸化におけるSi基板の結晶面方位依存性
福島 和哉、田原 慎一、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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SiCN膜の表面組成および濡れ性の評価
森下 文広、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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Surface carbonization of Si (100) substrate by heat treatment in CH4/H2 atmosphere
Ryouya Sugawara, Yuki Katamune, and Akira Izumi
EuroCVD 22 Baltic ALD 16 2019
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熱フィラメントCVD法によるダイヤモンドの成長における下地層の影響
森下 文広，片宗 優貴，和泉 亮
令和元年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (兼 九州表面・真空研究会2019)
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熱フィラメントCVD法により成長させたダイヤモンド(111)面のAFMによる表面構造評価
室津 遼，森 大地，片宗優貴，和泉亮
令和元年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (兼 九州表面・真空研究会2019)
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Shallow boron doping of Singlecrystalline diamond by excimer laser irradiation
Eslam Abubakr, Abdelrahman Zkria, Yūki Katamune, Shinya Ohmagari, Kaname Imokawa, Hiroshi Ikenoue, and Tsuyoshi Yoshitake
13th New Diamond and Nano Carbons Conference (NDNC2019)
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Growth of diamond (111) surface by hot-filament CVD with trimethylphosphine addition
Y. Katamune, D. Arikawa, D. Mori, R. Murotsu, and A. Izumi
13th New Diamond and Nano Carbons Conference (NDNC2019)
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層厚さの基板温度依存性
田原 慎一、福島 和哉、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Organic phosphorus solutions as precursors for diamond growth by hot filament CVD
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Diachi Mori, and Akira Izumi
JSAP Kyushu Chapter Annual Meeting 2018 /The 3rd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC)
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熱フィラメントCVD 法による単結晶ダイヤモンドの成長に及ぼすトリメチルホスフィン添加の影響
有川 大輔，森 大地，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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CH4/H2 雰囲気下での熱処理によるSi(100)基板の表面炭化
菅原 諒哉，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法により堆積したN-rich SiOCN 膜の電気的特性
筒井 逸仁、松本 真、大戸 崇伸、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Surface morphology of homoepitaxial diamond grown by hot-filament CVD using organic phosphorus solutions
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Daichi Mori, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Cu diffusion properties of SiCN films deposited by hot-wire chemical vapor deposition
H. Tsutsui, S. Hayashida, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Evaluation of corrosion resistance of SiOCN film by HWCVD method
K. Fukushima, S. Tahara, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Evaluation of composition and electrical characteristics of SiOCN thin films deposited by HWCVD
M. Matsumoto, H. Tsutsui, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Substrate temperature dependence of SiO2 layer formed on Si(100) by H2O/H2 decomposed species
S. Tahara, K. Fukushima, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Investigation of diamond growth on SiCN films deposited by hot wire CVD
Fumihiro Morishita, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Structural evaluation of polycrystalline diamond films grown by Hot Filament CVD using organic phosphorus solutions
Daichi Mori, Daisuke Arikawa, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Micro-sized diamond growth using organic phosphorus solution by hot filament chemical vapor deposition
Daisuke Arikawa, Daichi Mori, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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熱フィラメントCVD法により有機リン溶液を用いて作製した多結晶ダイヤモド膜の構造評価
森 大地、有川大輔、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD法により堆積したSiOCNの耐食性評価
福島和哉、田原慎一、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD 法により堆積した SiCN 膜の機械的特性評価
松本 真、筒井逸仁、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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ダイヤモンド膜の形成における中間層としてのSiCN膜の基礎的検討
森下文広、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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Photodetection properties of heterojunction diodes comprising boron-doped ultrananocrystalline diamond films prepared by coaxial arc plasma deposition and n-type silicon substrates
Satoshi Takeichi, Naofumi Nishikawa, Yuki Katamune, Tsuyoshi Yoshitake
11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’17 (ALC17)
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層の触媒体温度依存性
福島和哉，田原慎一，大戸崇伸，田原慎一，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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熱フィラメントCVD法による有機リン溶液を用いたダイヤモンドの成長速度異方性の調査
森大地，有川大輔，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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H2O/H2を導入したHWCVD法によるSiOCN膜の形成
田原慎一，福島和哉，大戸崇伸，田原慎一，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Formation of diamond films using organic phosphorus solutions by hot filament chemical vapor deposition
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Akira Izumi
OIST Diamond Workshop 2017
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Doping effects on minority-carrier lifetimes in ultrananocrystalline diamond/hydrogenated amorphous carbon composite films
Naofumi Nishikawa, Satoshi Takeichi, Shuya Tategami, Kenjiro Takauchi, Naoki Matsuda, Yuki Katamune, Atsuhiko Fukuyama, and Tsuyoshi Yoshitake
JSAP-OSA Joint Symposia 2017, 第78回応用物理学会秋季学術講演会
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高温プロセスにおける有機シリコン化合物原料を用いたSiCN膜の合成と組成制御
片宗優貴，森寛人，和泉亮
第14回Cat-CVD研究会
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HWCVD法により堆積したSiCN膜のCu拡散バリア膜としての性能評価
筒井 逸仁，林田 祥吾，片宗 優貴，和泉 亮
第14回Cat-CVD研究会
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HWCVD 法により堆積した SiCN 膜の機械的特性評価
森寛人，片宗優貴，和泉亮
平成29年度九州表面・真空研究会2017（兼 第22回九州薄膜表面研究会）
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加熱触媒体を⽤いて⽣成した H2O/H2分解種による Si 基板の低温酸化
田原慎一、大戸崇伸、片宗優貴、和泉亮
平成29年度九州表面・真空研究会2017（兼 第22回九州薄膜表面研究会）
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Diamond Growth on SiCN films by Hot Filament Chemical Vapor Deposition
Y. Katamune, H. Mori, and A. Izumi
平成28年度応用物理学会九州支部学術講演会
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加熱触媒体によるOHラジカルの生成とSiの低温酸化条件の検討
大戸崇伸、片宗優貴、和泉亮
2016 年真空・表面科学合同講演会 第 36 回表面科学学術講演会 第 57 回真空に関する連合講演会
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Defect Structures of Ultrananocrystalline Diamond/Hydrogenated Amorphous Carbon Composite Films Prepared By Physical Vapor Deposition
Y. Katamune, S. Takeichi, S. Al Riyami, and T. Yoshitake
Pasific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science (PRiME 2016)/230th ECS Meeting
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Thermal Conductivity of Ultrananocrystalline Diamond/Nonhydrogenated Amorphous Carbon Composite Films Prepared By Coaxial Arc Plasma Deposition
S. Takeichi, T. Nishiyama, M. Kohno, K. Takahashi, Y. Katamune, and T. Yoshitake
Pasific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science (PRiME 2016)/230th ECS Meeting
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Diamond growth with SiCN interlayer by Hot Filament Chemical Vapor Deposition
Y. Katamune, H. Mori, and A. Izumi
9th international conference on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition
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Electrical and barrier properties of SiCN films deposited by hot-wire chemical vapor deposition
Shogo Hayashida, Yuki Katamune, Akira Izumi
9th international conference on Hot Wire (Cat) and Initiated Chemical Vapor Deposition
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HF-CVD法によるダイヤモンド膜の形成におけるSiCN中間層の検討
片宗優貴、森寛人、和泉亮
第13回Cat‒CVD研究会
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ホウ素ドープ超ナノ微結晶ダイヤモンド/水素化アモルファスカーボン混相膜の欠陥構造の評価
片宗 優貴、竹市 悟志、吉武 剛
第63回 応用物理学会春季学術講演会
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硬X線光電子分光法による超ナノ微結晶ダイヤモンド/水素化アモルファスカーボン混相膜の化学結合構造および電子状態の評価
片宗 優貴
第8 回SPring-8 萌芽的研究支援ワークショップ