口頭発表・ポスター発表等 - 片宗 優貴
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Surface Modification of Polycrystalline Diamond Films Using KrF Excimer Laser 招待有り
Yūki Katamune, Koki Murasawa, Toshifumi Kikuchi, Tsuyoshi Yoshitake, Hiroshi Ikenoue
MRM2021
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熱フィラメントCVD 成長によるダイヤモンドのn 型ドーピング 招待有り
片宗 優貴，森 大地，有川 大輔，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第67回応用物理学会春季学術講演会
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熱フィラメントCVD法による(111)面上へのリンドープn型ダイヤモンド膜の成長
片宗 優貴，森 大地，有川 大輔，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第80回応用物理学会秋季学術講演会
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中真空状態で生成した水分解種による酸化膜形成と膜質評価
加茂 智歩理，川田 正幸，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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下地層の結晶配向性がリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす影響
中村 龍平，中野 晃良，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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カソードルミネッセンス法とラマン分光法を用いたリン添加多結晶ダイヤモンド膜の特性評価
井下 智史，片宗 優貴，和泉 亮，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第21回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法における低メタン濃度でのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす基板ステージ温度の影響
堀田 有花，片宗 優貴，和泉 亮
第21回Cat-CVD研究会
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Hot-filament CVD growth and characterization of phosphorus-doped diamond thin films
Y. Katamune, S. Inoshita, A. Izumi, T. Teraji, K. Watanabe, and S. Koizumi
Diamond Electronic Devices 2024 – French Japanese Workshop 2024年06月
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多結晶ダイヤモンドのCVD成長とリン添加の影響
堀田有花，片宗優貴，和泉亮
第14回半導体デバイスフォーラム
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ホットワイヤー法により中真空状態で生成した水分解種によるSi基板上への酸化膜形成
加茂智歩理、川田正幸、片宗優貴、和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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ホットワイヤー法により生成した水分解種を用いた水素添加のSi酸化膜形成における金属汚染の低減
川田 正幸、加茂 智歩理、片宗 優貴、和泉 亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法によって堆積した SiCN 薄膜の硬度と表面組成評価
米満宥希, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Si 上に形成したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス
井下智史, 片宗優貴, 和泉亮, 寺地徳之, 渡邊賢司, 小泉聡
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加多結晶ダイヤモンド膜の厚膜化に伴う結晶方位の変化
山口一色, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HFCVD 法によるリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の厚さの影響
中村龍平, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の平滑性向上
片宗優貴，松本拓万，山口一色，和泉亮
第37回ダイヤモンドシンポジウム
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の表面構造変化
片宗 優貴，松本 拓万，山口 一色，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法により成長したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス評価
井下 智史，片宗 優貴，和泉 亮，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第20回Cat-CVD研究会
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99) リン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長と結晶方位評価
山口 一色，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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Si基板上へのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の影響
中村 龍平，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会