口頭発表・ポスター発表等 - 片宗 優貴
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層厚さの基板温度依存性
田原 慎一、福島 和哉、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Organic phosphorus solutions as precursors for diamond growth by hot filament CVD
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Diachi Mori, and Akira Izumi
JSAP Kyushu Chapter Annual Meeting 2018 /The 3rd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC)
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熱フィラメントCVD 法による単結晶ダイヤモンドの成長に及ぼすトリメチルホスフィン添加の影響
有川 大輔，森 大地，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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CH4/H2 雰囲気下での熱処理によるSi(100)基板の表面炭化
菅原 諒哉，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法により堆積したN-rich SiOCN 膜の電気的特性
筒井 逸仁、松本 真、大戸 崇伸、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Surface morphology of homoepitaxial diamond grown by hot-filament CVD using organic phosphorus solutions
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Daichi Mori, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Cu diffusion properties of SiCN films deposited by hot-wire chemical vapor deposition
H. Tsutsui, S. Hayashida, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Evaluation of corrosion resistance of SiOCN film by HWCVD method
K. Fukushima, S. Tahara, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Evaluation of composition and electrical characteristics of SiOCN thin films deposited by HWCVD
M. Matsumoto, H. Tsutsui, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Substrate temperature dependence of SiO2 layer formed on Si(100) by H2O/H2 decomposed species
S. Tahara, K. Fukushima, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Investigation of diamond growth on SiCN films deposited by hot wire CVD
Fumihiro Morishita, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Structural evaluation of polycrystalline diamond films grown by Hot Filament CVD using organic phosphorus solutions
Daichi Mori, Daisuke Arikawa, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Micro-sized diamond growth using organic phosphorus solution by hot filament chemical vapor deposition
Daisuke Arikawa, Daichi Mori, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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熱フィラメントCVD法により有機リン溶液を用いて作製した多結晶ダイヤモド膜の構造評価
森 大地、有川大輔、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD法により堆積したSiOCNの耐食性評価
福島和哉、田原慎一、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD 法により堆積した SiCN 膜の機械的特性評価
松本 真、筒井逸仁、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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ダイヤモンド膜の形成における中間層としてのSiCN膜の基礎的検討
森下文広、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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Photodetection properties of heterojunction diodes comprising boron-doped ultrananocrystalline diamond films prepared by coaxial arc plasma deposition and n-type silicon substrates
Satoshi Takeichi, Naofumi Nishikawa, Yuki Katamune, Tsuyoshi Yoshitake
11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’17 (ALC17)
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層の触媒体温度依存性
福島和哉，田原慎一，大戸崇伸，田原慎一，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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熱フィラメントCVD法による有機リン溶液を用いたダイヤモンドの成長速度異方性の調査
森大地，有川大輔，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会