口頭発表・ポスター発表等 - 片宗 優貴
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Hot-filament CVD growth and characterization of phosphorus-doped diamond thin films
Y. Katamune, S. Inoshita, A. Izumi, T. Teraji, K. Watanabe, and S. Koizumi
Diamond Electronic Devices 2024 – French Japanese Workshop 2024年06月
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多結晶ダイヤモンドのCVD成長とリン添加の影響
堀田有花，片宗優貴，和泉亮
第14回半導体デバイスフォーラム
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ホットワイヤー法により中真空状態で生成した水分解種によるSi基板上への酸化膜形成
加茂智歩理、川田正幸、片宗優貴、和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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ホットワイヤー法により生成した水分解種を用いた水素添加のSi酸化膜形成における金属汚染の低減
川田 正幸、加茂 智歩理、片宗 優貴、和泉 亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法によって堆積した SiCN 薄膜の硬度と表面組成評価
米満宥希, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Si 上に形成したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス
井下智史, 片宗優貴, 和泉亮, 寺地徳之, 渡邊賢司, 小泉聡
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加多結晶ダイヤモンド膜の厚膜化に伴う結晶方位の変化
山口一色, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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HFCVD 法によるリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の厚さの影響
中村龍平, 片宗優貴, 和泉亮
2023年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の平滑性向上
片宗優貴，松本拓万，山口一色，和泉亮
第37回ダイヤモンドシンポジウム
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リン添加による多結晶CVDダイヤモンド膜の表面構造変化
片宗 優貴，松本 拓万，山口 一色，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法により成長したリン添加多結晶ダイヤモンド膜のカソードルミネッセンス評価
井下 智史，片宗 優貴，和泉 亮，寺地 徳之，渡邊 賢司，小泉 聡
第20回Cat-CVD研究会
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99) リン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長と結晶方位評価
山口 一色，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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Si基板上へのリン添加多結晶ダイヤモンド膜の成長に及ぼす予備成長層の影響
中村 龍平，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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低真空における水分解種による滅菌処理の検討
加茂 智歩理，川田 正幸，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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HW法による原子状水素を用いた酸化銅の還元評価
國友 亮佑，片宗 優貴，和泉 亮
第20回Cat-CVD研究会
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電子線後方散乱回折法によるリン添加多結晶ダイヤモンド膜の結晶方位評価の検討
山口一色、片宗優貴、和泉亮
2023年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会（九州表面・真空研究会2023）
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加熱触媒体により生成したラジカルによる滅菌法
川田 正幸、加茂 智歩理、片宗 優貴、和泉 亮
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会
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リンを添加して成長させた多結晶CVDダイヤモンドの膜構造の成長時間依存性
山口一色，片宗 優貴，和泉 亮
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Unidirectionally-oriented growth of β-Ga2O3 Thin Films on diamond (100) by RF magnetron sputtering
Takafumi Kusaba, Phongsaphak Sittimart, Hiroshi Naragino, Tsuyoshi Yoshitake, Yuki Katamune, Shinya Ohmagari
The 7th Asian Applied Physics Conference
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RF マグネトロンスパッタ法によるダイヤモンド(100)基板上へのβ-Ga2O3薄膜の一軸配向成長
綿谷 敦志、Sittimart Phongsaphak、楢木野 宏、片宗 優貴、大曲 新矢、吉武 剛
2022年度応用物理学会九州支部学術講演会