Conference Prsentations (Oral, Poster) -
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熱フィラメントCVD法により成長したリンドープn型ダイヤモンド膜の電気的特性
片宗 優貴，森 大地，和泉 亮，嶋岡 毅紘，市川 公善，小泉 聡
第33回ダイヤモンドシンポジウム
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Homoepitaxial growth of n-type (111) diamond films grown by hot-filament chemical vapor depositoni using an organic phosphorus dopant source
Yūki Katamune, Daichi Mori, Akira Izumi, Takehiro Shimaoka, Kimiyoshi Ichikawa, and Satoshi Koizumi
JSPS-CNRS diamond detector workshop 2019
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HW法における処理中の試料表面温度の測定
北原拓海、中野智之、片宗優貴、和泉亮
2019年度（第72回）電気・情報関係学会九州支部連合大会
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Diamond Growth of {111} Surfaces on Diamond Grain Using Trimethylphosphine by Hot Filament Chemical Vapor Deposition
Daichi Mori, Yūki Katamune and Akira Izumi
The 7th IIAE International Conference on Intelligent Systems and Image Processing 2019
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X線反射率法を用いたSiOCN膜の評価
松本 真、筒井 逸仁、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド(111)面の結晶成長とリンドーピング
片宗 優貴、森 大地、有川 大輔、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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H2O/H2分解種を用いた直接酸化におけるSi基板の結晶面方位依存性
福島 和哉、田原 慎一、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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SiCN膜の表面組成および濡れ性の評価
森下 文広、片宗 優貴、和泉 亮
第16回Cat-CVD研究会
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Surface carbonization of Si (100) substrate by heat treatment in CH4/H2 atmosphere
Ryouya Sugawara, Yuki Katamune, and Akira Izumi
EuroCVD 22 Baltic ALD 16 2019
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熱フィラメントCVD法によるダイヤモンドの成長における下地層の影響
森下 文広，片宗 優貴，和泉 亮
令和元年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (兼 九州表面・真空研究会2019)
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熱フィラメントCVD法により成長させたダイヤモンド(111)面のAFMによる表面構造評価
室津 遼，森 大地，片宗優貴，和泉亮
令和元年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (兼 九州表面・真空研究会2019)
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Shallow boron doping of Singlecrystalline diamond by excimer laser irradiation
Eslam Abubakr, Abdelrahman Zkria, Yūki Katamune, Shinya Ohmagari, Kaname Imokawa, Hiroshi Ikenoue, and Tsuyoshi Yoshitake
13th New Diamond and Nano Carbons Conference (NDNC2019)
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Growth of diamond (111) surface by hot-filament CVD with trimethylphosphine addition
Y. Katamune, D. Arikawa, D. Mori, R. Murotsu, and A. Izumi
13th New Diamond and Nano Carbons Conference (NDNC2019)
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層厚さの基板温度依存性
田原 慎一、福島 和哉、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Organic phosphorus solutions as precursors for diamond growth by hot filament CVD
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Diachi Mori, and Akira Izumi
JSAP Kyushu Chapter Annual Meeting 2018 /The 3rd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC)
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熱フィラメントCVD 法による単結晶ダイヤモンドの成長に及ぼすトリメチルホスフィン添加の影響
有川 大輔，森 大地，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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CH4/H2 雰囲気下での熱処理によるSi(100)基板の表面炭化
菅原 諒哉，片宗 優貴，和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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HWCVD 法により堆積したN-rich SiOCN 膜の電気的特性
筒井 逸仁、松本 真、大戸 崇伸、片宗 優貴、和泉 亮
2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会
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Surface morphology of homoepitaxial diamond grown by hot-filament CVD using organic phosphorus solutions
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Daichi Mori, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Cu diffusion properties of SiCN films deposited by hot-wire chemical vapor deposition
H. Tsutsui, S. Hayashida, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)