Conference Prsentations (Oral, Poster) -
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Evaluation of corrosion resistance of SiOCN film by HWCVD method
K. Fukushima, S. Tahara, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Evaluation of composition and electrical characteristics of SiOCN thin films deposited by HWCVD
M. Matsumoto, H. Tsutsui, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Substrate temperature dependence of SiO2 layer formed on Si(100) by H2O/H2 decomposed species
S. Tahara, K. Fukushima, Y. Katamune, A. Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Investigation of diamond growth on SiCN films deposited by hot wire CVD
Fumihiro Morishita, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Structural evaluation of polycrystalline diamond films grown by Hot Filament CVD using organic phosphorus solutions
Daichi Mori, Daisuke Arikawa, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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Micro-sized diamond growth using organic phosphorus solution by hot filament chemical vapor deposition
Daisuke Arikawa, Daichi Mori, Yuki Katamune, and Akira Izumi
10th international conference on hot wire (Cat) and Initiated chemical vapor deposition (HWCVD10)
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熱フィラメントCVD法により有機リン溶液を用いて作製した多結晶ダイヤモド膜の構造評価
森 大地、有川大輔、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD法により堆積したSiOCNの耐食性評価
福島和哉、田原慎一、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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HWCVD 法により堆積した SiCN 膜の機械的特性評価
松本 真、筒井逸仁、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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ダイヤモンド膜の形成における中間層としてのSiCN膜の基礎的検討
森下文広、片宗優貴、和泉 亮
平成30年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会 (九州表面・真空研究会2018)
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Photodetection properties of heterojunction diodes comprising boron-doped ultrananocrystalline diamond films prepared by coaxial arc plasma deposition and n-type silicon substrates
Satoshi Takeichi, Naofumi Nishikawa, Yuki Katamune, Tsuyoshi Yoshitake
11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices ’17 (ALC17)
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H2O/H2分解種によりSi(100)上に形成したSiO2層の触媒体温度依存性
福島和哉，田原慎一，大戸崇伸，田原慎一，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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熱フィラメントCVD法による有機リン溶液を用いたダイヤモンドの成長速度異方性の調査
森大地，有川大輔，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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H2O/H2を導入したHWCVD法によるSiOCN膜の形成
田原慎一，福島和哉，大戸崇伸，田原慎一，片宗優貴，和泉亮
平成29年度応用物理学会九州支部学術講演会
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Formation of diamond films using organic phosphorus solutions by hot filament chemical vapor deposition
Yuki Katamune, Daisuke Arikawa, Akira Izumi
OIST Diamond Workshop 2017
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Doping effects on minority-carrier lifetimes in ultrananocrystalline diamond/hydrogenated amorphous carbon composite films
Naofumi Nishikawa, Satoshi Takeichi, Shuya Tategami, Kenjiro Takauchi, Naoki Matsuda, Yuki Katamune, Atsuhiko Fukuyama, and Tsuyoshi Yoshitake
JSAP-OSA Joint Symposia 2017, 第78回応用物理学会秋季学術講演会
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高温プロセスにおける有機シリコン化合物原料を用いたSiCN膜の合成と組成制御
片宗優貴，森寛人，和泉亮
第14回Cat-CVD研究会
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HWCVD法により堆積したSiCN膜のCu拡散バリア膜としての性能評価
筒井 逸仁，林田 祥吾，片宗 優貴，和泉 亮
第14回Cat-CVD研究会
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HWCVD 法により堆積した SiCN 膜の機械的特性評価
森寛人，片宗優貴，和泉亮
平成29年度九州表面・真空研究会2017（兼 第22回九州薄膜表面研究会）
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加熱触媒体を⽤いて⽣成した H2O/H2分解種による Si 基板の低温酸化
田原慎一、大戸崇伸、片宗優貴、和泉亮
平成29年度九州表面・真空研究会2017（兼 第22回九州薄膜表面研究会）