口頭発表・ポスター発表等 - PANART KHAJORNRUNGRUANG
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CMPにおけるポリシングパッドとウェハとの動的接触に関する研究
岡本 英一郎, 木村 景一, カチョーンルンルアン パナート
精密工学会学術講演会講演論文集
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309 層間絶縁膜CMPプロセスにおけるスラリー中の微粒子の挙動観察(GS 生産加工I)
出井 良和, 木村 景一, カチョーンルンルアン パナート
日本機械学会九州支部講演論文集
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Development of Arrayed Micro Pattern on Polishing Pad Surface Applied with Anisotropic Etching
Keisuke Yasuda
ICPT 2009
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Study on Slurry Flow in CMP Process for Large Quadrilateral Quartz Glass Substrate
Nagisa Wada
ICPT 2009
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Evaluation Method for Surface Topography of Conditioned Polishing Pad based on Fourier Transform
Takahisa Okuzono
ICPT 2009
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Study on Functionality of Fine Particles in Slurry for Oxide CMP Process
Yuuichi Hashiyama
ICPT 2009
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Cu表面のCMP加工における材料除去メカニズムの研究－Cu表面膜の成長速度および物性の検証－
2007年 精密工学会九州支部 長崎地方講演会
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MEMS技術を用いたCMPマイクロパターンパッドの研究－パッド表面のマイクロパターンの提案とその製作法－
2007年 精密工学会九州支部 長崎地方講演会
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レーザ回折を用いたマイクロ工具オンマシン計測ユニットの試作―ユニットの測定性能の評価―
2007年度精密工学会春季大会学術講演会後援論文集
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ＣＭＰプロセスにおける材料除去モデルの研究
日本機械学会関東支部第13期総会講演会講演論文集
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SiC単結晶に対する紫外光照射の及ぼす影響
日本機械学会九州支部第６０期総会講演論文集
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紫外光照射Cu-CMPの研究
日本機械学会九州支部第６０期総会講演論文集
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ＣＭＰにおけるスラリープロー可視化に関する研究～ポリシングパッド溝パターン設計の指針～
日本機械学会九州支部第６０期総会講演論文集
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ＳｉＣセラミックスの高温ＣＭＰ加工に関する基礎的研究
日本機械学会九州支部第６０期総会講演論文集
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SiC単結晶の紫外光照射CMP加工の研究
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集
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単結晶SiC高温CMP加工の研究
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集
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CMPプロセスにおける材料除去モデルの研究
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集
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CMPにおけるスラリーフロー可視化実験に関する研究～ポリシングパッド溝パターンの影響～
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集
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ArFエキシマレーザによるダイヤモンドの紫外光照射CMPの研究
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集
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紫外光照射CMPの研究 －紫外光照射による加工特性－
2006年度精密工学会九州支部「福岡地方講演会」論文集